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LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

    LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

LEF300 鐳射系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,應用于內外層線路制作,特別適用于365mm波長、405nm波長或365nm 和 405nm激光直接成像系統。在酸性蝕刻以及電鍍工藝中有出色的性能。

特色及優點

高解析度 -1-2 mil 線寬/線距

曝光速度快

附著力好

抗化學性好

性能穩定

項目
單位
LEF312
LEF315
備注
厚度
μm
30
38

感度*1
mj/cm2
9
12

最短顯影時間
sec.
20
22

附著力*1*2(L/S=X/250)
μm
25
30

解析度*1*2(L/S=X/X)
μm
25
30

蓋孔孔徑
μm
//
6.0

*1:LEF315(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

*2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

*3:3mils SEM圖像。



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